氨逃逸高的原因：

　　

　　氨逃逸是影響系統(tǒng)運(yùn)行的一項(xiàng)重要參數(shù)，實(shí)際生產(chǎn)過程中通常是多于理論量的氨到達(dá)反應(yīng)器，反應(yīng)后在煙氣下游多余的氨稱為氨逃逸，氨逃逸是通過單位體積內(nèi)氨含量來表示的。為了達(dá)到環(huán)保要求，往往需要一定過量的氨，所以也對(duì)應(yīng)著會(huì)有一個(gè)合適的氨逃逸值，該值設(shè)計(jì)為不大于5ppm，但是往往實(shí)際運(yùn)行中偏大，主要有以下因素：

　　

　?。?）每只氨噴槍噴氨流量分布不均，煙氣中存在氨水局部分布不均，煙氣流速不均勻，各噴槍出口的噴氨量差異較大，濃度高的地方氨逃逸相對(duì)高一些。

　　

　?。?）煙氣溫度，反應(yīng)溫度過低，NOx與氨的反應(yīng)速率降低，會(huì)造成NH?的大量逃逸，但是，反應(yīng)溫度過高，氨又會(huì)額外生成NO，所以，NH?存在反應(yīng)溫度，在氨的反應(yīng)溫度800-1100℃；反應(yīng)器是以活性成分為WO3和V2O5為催化劑蜂窩裝模塊，還原劑為來自上游系統(tǒng)的氨逃逸作為還原劑，在催化劑的作用下，氨水與NOx在315~380℃的溫度區(qū)間內(nèi)反應(yīng)，生成氮?dú)夂退_(dá)到脫硝的目的，如果溫度過高過低達(dá)不到反應(yīng)效果，勢(shì)必增加氨逃逸。

　　

　?。?）催化劑堵塞，脫硝效率下降，為了保持環(huán)保參數(shù)不超標(biāo)，會(huì)噴更多的氨，這將引起惡性循環(huán)，催化劑局部堵塞、性能老化，導(dǎo)致催化劑各處催化效率不同，為了控制出口參數(shù)，只能增加噴氨量，從而導(dǎo)致局部氨逃逸升高。

　　

　?。?）霧化風(fēng)量偏小，噴槍霧化不好，氨水與煙氣不能充分混合，將產(chǎn)生大量的氨逃逸。

　　

　?。?）氨水濃度，氨水濃度配置，濃度高低無法受控，憑著感覺配置，就目前C鍋爐而言，基本上氨水濃度高，氨水調(diào)閥開度過小，霧化不好易自關(guān)，導(dǎo)致氨逃逸高，操作難度大。

　　

　?。?）燃燒波動(dòng)時(shí)，入口煙氣中的NOX濃度大幅波動(dòng)，往往會(huì)加大噴氨量，機(jī)械地實(shí)現(xiàn)“達(dá)標(biāo)排放”，過量的氨水，可導(dǎo)致氨逃逸增加，直接危及爐后設(shè)備和系統(tǒng)安全運(yùn)行。